Fotografijos Filtras - K&F Concept Nano-C HMC CPL 49mm Plonas Rėmelis
Kodas: 218757
EAN: 6936069208887
49 mm skersmens poliarizuojantis filtras su 5 mm plonu rėmeliu, kuris sumažina vinjetavimą. Pagamintas iš Japonijos optinio stiklo su 18 sluoksnių HMC danga, užtikrinančia mažesnį atspindį ir geresnį vaizdo aiškumą.
Prekės informacija
K&F Concept Nano-C HMC CPL Apvalus Poliarizuojantis Filtras - 49 Mm
49 mm apvalus poliarizuojantis filtras su 5 mm plonu rėmeliu, siekiant išvengti vignetavimo. Pagamintas iš japoniško optinio stiklo su 18 sluoksnių HMC danga, sumažinančia atspindžius ir gerinančia vaizdo aiškumą.
- Pašalina atspindžius ir pagerina nuotraukų kokybę su pažangia HMC danga.
- Ergonomiška rankenėlė tiksliam poliarizavimo efekto reguliavimui.
- Lengvas, tvirtas aliuminio rėmas (5 mm storio) užkerta kelią vignetavimui.
- Suderinamas su objektyvais, turinčiais 49 mm filtro tvirtinimo sriegį.
Ypatybės | |
|---|---|
| Produkto Tipas | Apvalus Poliarizuojantis Filtras |
| Prekės Ženklas | K&F Concept |
| Modelis | Nano-C HMC CPL |
Specifikacijos | |
| Filtras | Poliarizuojantis |
| Taikoma Danga | Kieta Multi-Danga (18 sluoksnių) |
| Srieginio Skersmens | 49 mm |
| Storis | 5 mm |
Papildoma Informacija | |
| Suderinamumas | Objektyvai su 49 mm filtro tvirtinimo sriegiais |
| Rinkinio Turinys | K&F Concept Nano-C HMC CPL apvalus poliarizuojantis filtras - 49 mm, apsauginis dėklas |
Gamintojai
49 mm skersmens poliarizuojantis filtras su 5 mm plonu rėmeliu, kuris sumažina vinjetavimą. Pagamintas iš Japonijos optinio stiklo su 18 sluoksnių HMC danga, užtikrinančia mažesnį atspindį ir geresnį vaizdo aiškumą.